Mesin Pembersih Air Reverse Osmosis EDI Satu Tahap Teknologi Filtrasi Lanjutan

Persyaratan utama: Air yang sangat murni untuk mencegah kontaminasi komponen presisi oleh ion, partikel, dan zat organik.

• Proses pembersihan chip semikonduktor, etching, dan fotolitografi
• Produksi komponen elektronik (kondensator, resistor)
• Pembuatan LCD dan panel surya (membersihkan substrat, persiapan pelapis)

Persyaratan utama: Air murni yang memenuhi standar farmakopea (farmakopea Cina, USP).

• Air untuk injeksi dan obat cair oral
• Proses bioteknologi (fermentasi, produksi vaksin)
• Peralatan medis (mesin dialisis)

Persyaratan utama: Kekerasan rendah, air dengan kandungan ion rendah untuk mencegah peralatan berskala dan korosi.

• Pengolahan air pemanas boiler (tanaman termal/nuklir)
• Pengolahan air pendingin turbin uap dan kondensor

Persyaratan inti: Air dengan kemurnian tinggi sebagai medium reaksi untuk menjaga kemurnian produk.

• Produksi bahan perantara farmasi dan katalis
• Nanomaterial dan persiapan elektrolit baterai lithium
• Aplikasi laboratorium analisis

Persyaratan utama: Air yang dimurnikan memenuhi standar keselamatan pangan, bebas dari mikroorganisme dan kontaminan.

• Produksi minuman (air murni, jus, bir)
• Pembersihan peralatan pengolahan makanan dan susu
• Persediaan aditif makanan

Persyaratan utama: Air ultra murni untuk percobaan dan analisis presisi tinggi.

• Laboratorium universitas dan lembaga penelitian
• Pemantauan lingkungan dan pengujian kualitas air
• Aplikasi pengujian medis

• Pengolahan selanjutnya untuk desalinasi air laut/air garam
• Produksi kosmetik (emulsi, esensi)
• Proses manufaktur mobil